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GB/T 14141-2009硅外延層、擴散層和離子注入層薄層電阻的測定 直排四探針法

發布時間: 2023-08-23 13:31:04 點擊: 574

GB/T 14141-2009硅外延層、擴散層和離子注入層薄層電阻的測定 直排四探針法
規定了使用直排四探針法測定硅外延層、擴散層和離子注入層薄層電阻的方法。該標準適用于半導體器件和材料中硅外延層、擴散層和離子注入層的薄層電阻測量。

根據標準,測試設備應包括直排四探針測試儀、夾具、電源和測量儀器等。測試時,將待測樣品放在夾具上,然后將直排四探針接觸到樣品表面,并施加一定的電壓,測量樣品的電流值。通過測量多個點,可以得到樣品的薄層電阻分布情況。

該方法的優點是不需要剝離樣品,不會對樣品造成損*傷,測試速度較快,適合于自動化測試。但需要注意的是,測試結果受到探針與樣品接觸電阻、測試環境的溫度和濕度等因素的影響。因此,在進行測試時,需要控制測試條件并采取必要的修正措施,以保證測試結果的準確性。

總之,GB/T 14141-2009標準提供了使用直排四探針法測定硅外延層、擴散層和離子注入層薄層電阻的方法,對于評估半導體器件和材料的電性能具有重要意義。
直排四探針法是一種常用的測試方法,用于測量半導體材料的電阻率。該方法使用四個探針按照直線排列,直接接觸材料的表面進行測試。

直排四探針法的優點包括:

測試速度快,適合于批量測試。
對樣品的要求較低,不需要進行特殊處理。
測量結果受樣品形狀和尺寸的影響較小。
直排四探針法的測試原理是基于歐姆定律,通過測量探針之間的電壓和電流來計算材料的電阻率。具體來說,將四個探針按照直線排列,分別與材料接觸,然后通過電源向材料施加一定的電流,同時測量材料兩端的電壓。根據歐姆定律,可以計算出材料的電阻率。

需要注意的是,直排四探針法只能測量材料的平均電阻率,無法測量材料的局部不均勻性和突變。此外,測試結果受到探針與材料接觸電阻、測試環境的溫度和濕度等因素的影響。因此,在進行測試時,需要控制測試條件并采取必要的修正措施,以保證測試結果的準確性。